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廣州文明機(jī)電有限公司


BS/JEBG/EBG 系列電子槍

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

用于光學(xué)薄膜及電極膜等各種薄膜形成的電子束蒸鍍用電子槍/電源

詳細(xì)介紹

用于光學(xué)薄膜及電極膜等各種薄膜形成的電子束蒸鍍用電子槍/電源。

電子束蒸鍍法的特征

用電子束直接照射鍍膜材料進(jìn)行加熱,因此熱效率高,能蒸發(fā)高熔點(diǎn)金屬、氧化物、化合物、升華性物質(zhì)等各種材料。

鍍膜材料在水冷銅坩堝內(nèi)(*)被直接加熱,因此不會(huì)象電阻加熱式或感應(yīng)加熱式那樣與坩堝發(fā)生反應(yīng)。
*可能需要使用坩堝內(nèi)襯。

能迅速控制輸出,因而能精確地控制膜厚。

與濺射法及 CVD 法相比,能快速鍍膜是一大特征。
對(duì)形成1µm 以上的厚膜也很有效。

日本電子制造的電子槍/電源的特征

[ 氧化物 ]

電子束垂直照射鍍膜材料,束斑近似圓形,具有能量密度高的特征。此外,由于標(biāo)準(zhǔn)配備了快速掃描功能,非常適合蒸鍍?nèi)邳c(diǎn)高、熱傳導(dǎo)性低的氧化物及升華性材料,能獲得良好的熔痕,大面積的鍍膜區(qū)域上膜厚分布均勻,重現(xiàn)性好。

[ 金屬 ]

坩堝的選擇范圍很大,能進(jìn)行多種、大量、高速率的蒸鍍,還有用來(lái)抑制成膜時(shí)溫度上升的剝離工藝用電子槍。

[ 合金復(fù)合膜 ]

往臨近的兩個(gè)或三個(gè)坩堝內(nèi)充填不同的材料,使用專用的掃描控制器進(jìn)行雙源或三源蒸發(fā),可以形成合金膜和復(fù)合膜。

型號(hào)輸出功率偏轉(zhuǎn)角度燈絲電子束掃描坩堝氧化物金屬
BS-60060DEBS6.4kW270°U字形
(長(zhǎng)壽命)
快速
掃描
無(wú)*2
BS-60050EBS10kW270°無(wú)*2

BS-60040VDGN10kW270°無(wú)*2

BS-60030DGN10kW270°無(wú)*2

EBG-102UB6S10kW180°漩渦形12cc×6 個(gè)
EBG-102UB4S10kW180°12cc×4 個(gè)

JEBG-102UH010kW180°無(wú)*2

BS-60210DEM
+BS-60140H4H
10kW270°直線線圈形
(長(zhǎng)壽命)
中速
掃描
40cc×4 個(gè)
BS-60210DEM
+BS-60150H6H
10kW270°40cc×6 個(gè)

EBG-203UB6S20kW*1270°漩渦形快速
掃描
12cc×6 個(gè)*3
EBG-203UB4H20kW*1270°12cc×2 個(gè) 28cc
(半球)×2 個(gè)


JEBG-203UA020kW*1270°無(wú)*4

JEBG-303UA30kW*1270°無(wú)*5


  • *1: EB電源輸出功率為16kW,實(shí)際能使用的輸出功率為16kW。

  • *2: 可以定制 ?12cc×4 或6個(gè) 等

  • *3: 坩堝小凹孔的形狀可以改變 ? 28cc(φ45×20h)×6個(gè), 51cc(φ60×20h)×3個(gè)等。

  • *4: 可以定制 ?40cc(φ50×25h)×4或6個(gè), 114cc(φ75×30h)×1個(gè)等

  • *5: 可以定制 ?114cc(φ75×30h)×1個(gè), φ34×20h×3個(gè)小凹穴(同時(shí)蒸鍍用), φ70×30h×4個(gè) 等

  • 關(guān)于坩堝規(guī)格請(qǐng)另行咨詢。

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