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等離子電漿拋光設(shè)備

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等離子拋光機(jī)基本原理介紹等離子電漿拋光設(shè)備是利用工件與拋光液中通電脫離的金屬離子來(lái)達(dá)到拋光工件表面的結(jié)果

詳細(xì)介紹

等離子拋光機(jī)（電漿拋光設(shè)備）運(yùn)作過(guò)程

EPP（等離子拋光技術(shù)）將被拋光的金屬工件放在掛具上，作為陽(yáng)極沉入低濃度的中性鹽配制的拋光液中，拋光液及拋光槽與陰極相連。在工件進(jìn)入拋光液的過(guò)程中，拋光液電解產(chǎn)生的氣體和工件與拋光液接觸位置瞬時(shí)短路，所蒸發(fā)的水蒸汽會(huì)形成一個(gè)包圍工件的氣層，將工件與拋光隔開。由于微觀凸起的位置電場(chǎng)強(qiáng)大，氣層在直流電壓的作用下進(jìn)入等離子態(tài)后，會(huì)優(yōu)先在微觀凸起的位置形成放電通道，將這些位置的材料去除，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)工件的拋光。目前優(yōu)化后的EPP（等離子）拋光工件Ra值可以達(dá)到9.3nm，表面光反射率可以達(dá)到50.05%。

EPP等離子拋光機(jī)技術(shù)特點(diǎn)與優(yōu)勢(shì)

EPP（等離子拋光技術(shù)）又稱為零件表面平整光亮技術(shù)，使零件表面平坦化，并且變形層變化較小，零件表面毫無(wú)劃痕的拋光工藝，增加零件表面光亮度，提高其耐磨性和耐磨蝕性。等離子電漿拋光設(shè)備采用的拋光液的氧化物粒徑小，硬度強(qiáng)，故拋光時(shí)不產(chǎn)生劃痕，拋光效果好。加工出來(lái)的工件表面光亮美觀，色澤鮮艷，光亮奪目，還可以防止工件的銹蝕，保持與提高工件表面的光澤，起到清潔工件與磨具的作用。同時(shí)能去除油污，軟化工件表面以加速磨削，減少磨具對(duì)工件的沖擊，改善了工件條件。

由于拋光溶液不參加反應(yīng)，故可以長(zhǎng)時(shí)間使用，并且不易變質(zhì)，與傳統(tǒng)的電解拋光、化學(xué)拋光相比，成本非常低。

EPP（等離子）拋光是一種全新的屬表面處理工藝，僅在工件表面的分子層與等離子反應(yīng)，分子中原子一般間距為0.1～0.3nm，處理深度為0.3～4.5rim，拋光特的表面粗糙度在Ra=0.1um范圍內(nèi)，因此等離子納米化學(xué)活化工件表面，去除表面分子污染層，交叉鏈接表面化學(xué)物質(zhì)。

等離子拋光機(jī)技術(shù)特點(diǎn)與優(yōu)勢(shì)

EPP等離子拋光技術(shù)的亮點(diǎn)主要體現(xiàn)在，能夠?qū)Ρ砻嫘螤顝?fù)雜的零件進(jìn)行拋光處理，加工一致性好，而且該方法采用的拋光液是低濃度的無(wú)機(jī)鹽溶液，減少了在拋光液上的投資，降低了整體的成本，加工后的效果也比傳統(tǒng)拋光方法要好。

EPP拋光（等離子拋光工藝）也非常適合細(xì)小精密結(jié)構(gòu)件拋光。

等離子拋光設(shè)備工藝的優(yōu)勢(shì)主要表現(xiàn)

1.減輕環(huán)保壓力——等離子拋光液非常環(huán)保，其廢液可以直接排放而不會(huì)造成污染，也可以稍做處理回收利用。

2.簡(jiǎn)單、易行——EPP（等離子電漿）拋光采用專門的自動(dòng)化控制設(shè)備，操作簡(jiǎn)單，維護(hù)方便，可減少作業(yè)人員，降低人工成本。

3.效率高——自動(dòng)化控制設(shè)備通過(guò)專用藥劑，可在十幾秒到兩分鐘內(nèi)達(dá)到電鍍鏡面效果，大大提高了生產(chǎn)效率。

4.效果好，提高成品質(zhì)量——大源智能自動(dòng)化控制等離子設(shè)備拋光出的產(chǎn)品具有高品質(zhì)，而且可以對(duì)一些人工不可能拋光的精密工件加以拋光，其精度控制，尺寸影響小，通?？煽刂圃?.1um/min，使整個(gè)工件表面和死角部位都可以達(dá)到一致的鏡面效果。

5.適用面廣——EPP等離子拋光可以適用的行業(yè)有手機(jī)電子、集成電路制造、運(yùn)動(dòng)器材（高爾夫球具）、眼鏡制造、不銹鋼潔具、餐具、科研、手表飾品、汽車配件、LED制程、數(shù)碼配件、精密模具、等離子拋光和電解拋光的及五金制品等行業(yè)。

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