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研磨和拋光設(shè)備TARGETSYSTEM

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產(chǎn)品簡介

用于可見目標和隱藏目標的自動目標制備TargetSystem特性顯著縮減制備時間不受操作人員技能影響的再現(xiàn)性無需成本昂貴的磨料薄膜TargetSystem設(shè)計用于微電子組件和扁平化目標制備

詳細介紹

研磨和拋光設(shè)備TARGETSYSTEM

用于可見目標和隱藏目標的自動目標制備

TargetSystem 特性
顯著縮減制備時間
不受操作人員技能影響
的再現(xiàn)性
無需成本昂貴的磨料薄膜
TargetSystem 設(shè)計用于微電子組件和扁平化目標制備。這是款失效分析工具，可對可見目標和隱藏目標進行實時對齊和測量，例如微型穿孔和 BGA。系統(tǒng)精度高達 +/- 5 µm。

較短的制備時間
智能制備系統(tǒng) (IPS) 可根據(jù)實際樣品屬性和研磨/拋光表面自動調(diào)整消除時間和速率。這意味著可將測量和制備時間縮減至 30 分鐘以內(nèi)。

再現(xiàn)性
自動化工藝使得 TargetSystem 不受操作人員技能的影響，無論何人操作都可確保再現(xiàn)性。

降低運行成本
TargetSystem 可與任何 SiC 紙或其他耗材配合使用，無需成本昂貴的研磨薄片。

TargetMaster
適用于自動目標制備的 200 mm 微型拋光機。適用于 30 mm 試樣并且包括 200 mm MD-Disc 的可翻轉(zhuǎn)夾具。

加液系統(tǒng)需要單獨訂購。

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