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質譜分析儀與吸附儀聯用進行金屬表面積測試

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產品簡介

質譜分析儀與吸附儀聯用進行金屬表面積測試

詳細介紹

上海伯東 Pfeiffer 質譜分析儀 Omnistar 與 TPR/TPD 聯用應用于進行金屬表面積測試
"化學吸附儀 TPR/TPD,是運用氣體分子或者蒸汽分子的化學吸附和脫附的現象來得到測試結果的。當氣體分子或者蒸汽分子,通過化學鍵連接到樣品的固體表面時我們稱之為化學吸附,反之當此化學鍵斷開時候就是化學脫附?;瘜W吸附可以探測樣品表面的特定分子種類。

設備的程序升溫分析用于研究在程序控制的熱能條件下,金屬化學吸附位的性質。TPD 測試時,在程序控制下,通過監(jiān)測樣品表面脫附的分子種類,并測量不同溫度下,脫附氣體分子的體積,就能得到化學吸附位的強度和化學吸附位的數量。

上海伯東客戶案例:上海某高等研究院
TPR 可以定量分析樣品中的可還原組分,本化學吸附儀在連接上海伯東德國 Pfeiffer 質譜分析儀 Omnistar之后有了更好的表現,載流氣體經過樣品管后,可以直接通入Omnistar 質譜分析儀,來測定反應產物或脫附后的產物的分子質量,進而可以推斷出反應產物的類型。當對同一樣品,在不同溫度條件下進行的測試結果進行分析后,就可以計算脫附熱。
本化學吸附應用,就是用來測量支撐基板上附著的活性金屬表面積的大小、活性金屬的分散度和活性金屬含量的百分比。

吸附儀 AutoChem 2920 配置:
1. 高溫爐溫度范圍:40-1100℃;
2. 自動升溫速度:0-50℃/min(-70-500℃),0-30℃/min(500-700℃),0-10℃/min(750-1100℃);
3. 吸附氣體:二氧化碳、氫氣、氧氣。

裝置配套 Omnistar 質譜分析儀配置:
1.測量范圍:1-200amu
2.進樣方式:常壓
3.加熱溫度:1-200℃
4.毛細管材質:石英
質譜分析儀,Pfeiffer

Pfeiffer 質譜分析儀 與友廠英國 Hiden,美國 Ametek 質譜儀相比主要優(yōu)勢:
1.整機設計:整個質譜采用全封閉式結構,保護儀器內各個元件潔凈,測量不受干擾,不易被損壞,靈敏度高,保證所有組件歐洲。
2.質譜分析儀采用 Gas-tight 封閉式離子源,雙燈絲設計,的場軸技術和偏壓技術保證低氣體釋放,低氣體消耗,低背景噪音,高信噪比等優(yōu)點。
3.配置雙分流渦輪分子泵 Hipace 80,無需增加旁路排氣系統(tǒng),分子泵轉速高達 90000 rpm/min,業(yè)界.
4.內置鉑金微孔,毛細進樣管進樣系統(tǒng),耐受溫度 350 度,可實現 5x10-3 mbar 真空進樣
5.質譜分析儀內置 QuadstarTM 軟件: 操作簡單,功能強大,可以更方便地進行定性定量分析以及線上離線分析。

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