廣元物化一體全程水處理器

廣元物化一體全程水處理器

廣元物化一體全程水處理器

產(chǎn)品簡介 全程水處理器是針對各種循環(huán)水系統(tǒng)中普遍存在的四大問題：腐蝕、結(jié)垢、菌藻、水質(zhì)而研制的全程綜合水處理器，由單臺設備代替了需要多臺設備才能完成的片處理過程，從而取代了傳統(tǒng)的處理方式。它應用高科技——差轉(zhuǎn)屏蔽效應及多點陣列組合。巧妙地解決了各種頻譜間與電暈效應場間的互相干擾、制約的重大難題，具有對水質(zhì)綜合優(yōu)化處理，防垢、防腐、菌、滅藻、超凈過濾功能，具有電一體化的設計，純物理方式處理，無需化學藥劑，阻力低、流量大。而且運行費用極低，作簡單，維護方便，是各種水系統(tǒng)之選擇。

制造種類

 A 型：防腐 超凈過濾型 在金屬管道內(nèi)壁上與水接觸所產(chǎn)生的腐蝕主要是電化學腐蝕，即微電池效應。 A 型綜合水處理器首先采用高頻技術利用高頻電場力的作用使水化，并利用趨附效應使產(chǎn)生的富態(tài)電子層涂敷在管壁上阻礙了電化學腐蝕通路，低了電導率。其次利用“黃銹水過濾器”的復合過濾體系（表面過濾原理，多介質(zhì)復合層，電能場效應）吸咐捕捉水體中懸浮物、鐵錳離子、菌藻膠體等并排出系統(tǒng)，達到超凈過濾控制濃縮比的作用。通過以上方式在線運行時達到綜合處理效。

 B 型：防垢超凈過濾 水在一定溫度下產(chǎn)生結(jié)垢，在循環(huán)水系統(tǒng)中往往是由硬度垢、銹垢、泥垢、菌藻垢組成的復合垢層。 B 型綜合水處理器首先采用電能，通過高頻發(fā)生器和換能器產(chǎn)生的高頻電場力對水的活作用使結(jié)垢晶核無法生長壯大，降沉淀率。同時利用微共振的原理疏松降解原垢層，并使水體溶解度增加。其次利用“黃銹水過濾器”的復合過濾體系（表面過濾原理，多介質(zhì)復合層，電能場效應）吸咐捕捉初步處理后水體中相對高濃度的雜質(zhì)并排出系統(tǒng)達到綜合處理的效。
 
C 型：菌滅藻超凈過濾型 當水體中溫度、養(yǎng)分等條件適合時就會產(chǎn)生大量菌藻繁殖現(xiàn)象。 C 型綜合水處理器首先采用電能，產(chǎn)生高頻高壓力電場直接破壞菌藻的細胞結(jié)構，同時產(chǎn)生的活水改變了菌藻的生態(tài)環(huán)境使其無法存活。其次利用“黃銹水過濾器”的復合過濾體系（表面過濾原理，多介質(zhì)復合層，電能場效應）吸咐捕捉懸浮在水體中的死亡菌藻團并排出系統(tǒng)達到綜合處理效。 

適用范圍

1．主要適用于循環(huán)水、自來水、地表水、地下水、海水、游泳池用水、熱水的水質(zhì)處理及控制；

2．可廣泛適用于石油、化工、鋼鐵、發(fā)電、空調(diào)、鍋爐采暖、地源熱泵、及其它工礦企業(yè)的循環(huán)水、源水及污水處理等

“全程綜合水處理器”的工作原理是通過控制硬度垢及污垢二方面綜合來解決復合水垢的問題。故“全程綜合水處理器”在系統(tǒng)正常運行狀態(tài)下，可完成防垢除垢，防銹緩蝕、菌滅藻、超凈過濾，控制水質(zhì)的全過程處理。

1．防垢除垢原理
水經(jīng)加熱升溫后形成水垢，其主要組成成分是由硬度構成物質(zhì)，Ca2+、Mg2+、Si2+、Fe3+及懸浮物，沉淀物組成。即在實際運行工況下各種水系統(tǒng)形成的水垢，均為復合垢。通過換能器將特定射頻能量轉(zhuǎn)換給被處理介質(zhì)----水，使其成垢離子間的排列順序位置發(fā)生扭曲變形。
當水溫升高時，處理后的水需經(jīng)過一段時間才能恢復到原來的狀態(tài)。在此階段，成垢的機率很低，從而達到控制形成硬度垢的目的。

2.超凈過濾原理

利用活性鐵質(zhì)濾膜，機械變孔徑阻擋層及電暈效應場三位一體形成的綜合過濾體系。它能過濾吸附水中的鐵離子、懸浮物、沉淀物及其它雜質(zhì)，達到有效控制水質(zhì)濁度、色度、收集排放雜質(zhì)的目的。
它是工業(yè)、民用給排水系統(tǒng)*的*過濾設備。它凈化效率高，設備阻力小，對水質(zhì)、環(huán)境無污染，不需要更換綜合濾體?？梢詥闻_設備替代多臺通用的過濾產(chǎn)品，如角式、Y式過濾器。實現(xiàn)系統(tǒng)連續(xù)運行狀態(tài)下的過濾、收集、濃縮、排污，復活濾體的全過程。sldszy

它應用高科技——差轉(zhuǎn)屏蔽效應及多點陣列組合。巧妙地解決了各種頻譜間與電暈效應場間的互相干擾、制約的重大難題，具有對水質(zhì)綜合優(yōu)化處理，防垢、防腐、菌、滅藻、超凈過濾功能。利用紫外線的強菌、滅澡、消功能，彌補了射頻技術在高溫、高濕、水質(zhì)惡劣等環(huán)境下菌滅藻的不足之處。